原发布:2026-08-03 · 收录:2026-10-01
专家解读新修订《集成电路布图设计保护条例》:扩展保护范围纳入集成光子、量子等功能集成电路
国务院公布新修订的《集成电路布图设计保护条例》,系该条例20多年来首次系统性修订,修订内容涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等,明确对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可依条例予以保护。
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原发布:2026-08-03 · 收录:2026-10-01
国务院公布新修订的《集成电路布图设计保护条例》,系该条例20多年来首次系统性修订,修订内容涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等,明确对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可依条例予以保护。
查看详情与政策原文 →原发布:2026-08-03 · 收录:2026-10-01
2026年7月国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》,自2026年10月15日起施行,新增“独创性声明”作为布图设计申请登记的法定文件,用于书面说明独创性边界。解读认为该制度可提升保护范围确定性,降低确权、维权、运用环节的举证与鉴定成本,同时前端撰写成本可能增加。原文未说明具体实施条件。
查看详情与政策原文 →原发布:2026-09-30 · 收录:2026-10-01
国务院2026年7月23日公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》,自2026年10月15日起施行;国家知识产权局据此制定过渡办法并作出说明,明确审查业务相关条款在条例施行前后的具体适用规则,原则上不溯及既往。
查看详情与政策原文 →该过渡办法明确修订后条例施行前后审查业务的适用规则,涉及代理、独创性声明、依请求撤销、权利恢复、转让备案等具体衔接安排,可研究借鉴其新旧制度过渡的条款设计及配套细则指南同步修改的做法。
原发布:2026-09-30 · 收录:2026-10-01
国家知识产权局于2026年9月30日以局令第八十六号公布修订后的《集成电路布图设计保护条例实施细则》,自2026年10月30日起施行,以配合2026年10月15日起施行的修订后《集成电路布图设计保护条例》。
查看详情与政策原文 →原发布:2026-09-30 · 收录:2026-10-01
工业和信息化部、国家发展改革委、财政部、税务总局联合发布通知,部署2026年度享受增值税加计抵减政策的集成电路设计、生产、封测、装备、材料企业清单制定工作,明确企业须于2026年10月9日至10月16日在信息填报系统提交申请并报送纸质材料,已列入2025年清单的企业继续申请须重新提交材料。
查看详情与政策原文 →四部门明确集成电路企业增值税加计抵减清单的申报、初核、复核、联审与退出机制,可研究借鉴其清单动态管理和重大变化报告时限设计,需具备跨部门联审与信息填报系统条件。