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9月30日周三
  1. 工信部 · 政策文件

    四部门部署2026年度享受增值税加计抵减政策的集成电路企业清单制定工作

    工业和信息化部、国家发展改革委、财政部、税务总局联合发布通知,部署2026年度享受增值税加计抵减政策的集成电路设计、生产、封测、装备、材料企业清单制定工作,明确企业须于2026年10月9日至10月16日在信息填报系统提交申请并报送纸质材料,已列入2025年清单的企业继续申请须重新提交材料。

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    企业影响与地方借鉴

    四部门明确集成电路企业增值税加计抵减清单的申报、初核、复核、联审与退出机制,可研究借鉴其清单动态管理和重大变化报告时限设计,需具备跨部门联审与信息填报系统条件。

  2. 知识产权局 · 政策解读

    知识产权局就施行修订后《集成电路布图设计保护条例》审查业务处理过渡办法作出说明

    国务院2026年7月23日公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》,自2026年10月15日起施行;国家知识产权局据此制定过渡办法并作出说明,明确审查业务相关条款在条例施行前后的具体适用规则,原则上不溯及既往。

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    企业影响与地方借鉴

    该过渡办法明确修订后条例施行前后审查业务的适用规则,涉及代理、独创性声明、依请求撤销、权利恢复、转让备案等具体衔接安排,可研究借鉴其新旧制度过渡的条款设计及配套细则指南同步修改的做法。

9月16日周三
  1. 北京市政府 · 政策文件

    中共北京市委教育科技人才工作领导小组印发《“十五五”时期中关村世界领先科技园区建设规划》

    中共北京市委教育科技人才工作领导小组于2026年9月7日印发《“十五五”时期中关村世界领先科技园区建设规划》,提出到2030年基本建成世界领先科技园区、到2035年全面建成,并部署产业技术策源、未来产业布局、世界级产业集群建设等任务。

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    企业影响与地方借鉴

    该规划将园区营商环境纳入先行先试改革框架,提出健全“高效办成一件事”运行机制、用地弹性年期出让、条例修订研究等具体安排。可研究借鉴其分园统筹与动态调整机制,但需具备相应规划权限和土地管理条件。

9月7日周一
  1. 商务部 · 贸易与投资政策文件

    商务部公布对原产于日本的进口二氯二氢硅反倾销调查初步裁定

    商务部公告2026年第37号公布对原产于日本的进口二氯二氢硅反倾销调查初步裁定,认定存在倾销、国内产业受到实质损害且二者存在因果关系,自2026年9月8日起以保证金形式实施临时反倾销措施。

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    企业影响与地方借鉴

    商务部对原产于日本的进口二氯二氢硅作出反倾销初裁并自2026年9月8日起以保证金形式实施临时措施,涉及芯片制造用电子特气进口环节;可研究借鉴贸易救济调查中初裁与临时措施衔接、按公司分别设定保证金比率的程序安排,其适用以调查机关裁定和海关执行为条件。

8月31日周一
  1. 北京市发展改革委 · 政策文件

    北京市发展改革委、市规划自然资源委印发《北京市先进制造业和现代服务业融合示范园区和试点企业认定及支持办法》

    北京市发展改革委、北京市规划和自然资源委员会于2026年8月24日印发两业融合示范园区和试点企业认定及支持办法,自印发之日起实施,适用于北京市域内申报主体,国家级两业融合试点区域和企业可享受市级相应支持政策。

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    企业影响与地方借鉴

    可研究借鉴其“认定标准+动态管理+用地与上市支持”的组合机制:示范园区设营收、制造与服务占比、单位面积产出等量化门槛,试点企业分领跑型与成长型并挂钩研发服务投入比例;落地需市级财政、土地和联席会议审议权限支撑。

8月7日周五
  1. 新加坡竞争与消费者委员会 · 竞争监管

    新加坡竞争与消费者委员会裁定德州仪器收购Silicon Labs股权交易不构成竞争损害

    新加坡竞争与消费者委员会(CCS)已批准德州仪器(TI)收购Silicon Laboratories Inc.全部已发行及流通股权的拟议交易。CCS评估后认定,该交易不会在全球供应商向全球客户供应无线连接系统级芯片、非无线微控制器、电源管理集成电路、传感器及通用串行总线桥接器等产品方面实质性削弱竞争,相关市场预计将保持竞争性。

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8月3日周一
  1. 知识产权局 · 政策解读

    专家解读修订后《集成电路布图设计保护条例》增设独创性声明制度

    2026年7月国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》,自2026年10月15日起施行,新增“独创性声明”作为布图设计申请登记的法定文件,用于书面说明独创性边界。解读认为该制度可提升保护范围确定性,降低确权、维权、运用环节的举证与鉴定成本,同时前端撰写成本可能增加。原文未说明具体实施条件。

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  2. 知识产权局 · 政策解读

    专家解读新修订《集成电路布图设计保护条例》:扩展保护范围纳入集成光子、量子等功能集成电路

    国务院公布新修订的《集成电路布图设计保护条例》,系该条例20多年来首次系统性修订,修订内容涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等,明确对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可依条例予以保护。

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4月20日周一
  1. 最高人民法院 · 司法文件

    最高人民法院印发《人民法院知识产权司法保护实施方案(2026—2030年)》

    最高人民法院于2026年4月17日印发《人民法院知识产权司法保护实施方案(2026—2030年)》(法发〔2026〕4号),明确“十五五”时期知识产权司法保护的总体要求、重点工作、改革举措和工作机制,目标到2030年基本形成公正高效、管辖科学、权界清晰、系统完备的知识产权司法保护体制机制。

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2月25日周三
7月29日周一
  1. 知识产权局 · 政策解读

    国家知识产权局等部门解读《关于推进重点产业知识产权强链增效的若干措施》

    国家知识产权局与教育部、科技部、工业和信息化部、国务院国资委、市场监管总局、金融监管总局、中国科学院、中国贸促会联合印发《关于推进重点产业知识产权强链增效的若干措施》,并于2024年6月21日正式印发,解读围绕传统产业、新兴产业、未来产业部署十项任务。

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